当社は長年にわたり真空スパッタリング装置の研究開発と革新に取り組み、高効率・低消費電力で安定かつ信頼性の高い薄膜プロセスソリューションを提供しています。技術的優位性を強化するため、設計初期から特許戦略を重視し、ターゲット搬送システム・チャンバー構造最適化・膜均一性制御・自動監視モジュールなどの主要技術について研究開発と国内外特許出願を継続しています。現在、装置設計・プロセス制御・スマート操作インターフェースを含む数十件の発明・実用新案特許を取得し、包括的な技術保護網を構築しています。

充実した特許布陣により、自社技術の市場競争力を確保するとともに、お客様に先進的で持続可能なソリューションを提供します。今後も特許技術の統合応用を深化させ、真空スパッタリング装置のスマート化・グリーン化を推進し、産業パートナーと共により高付加価値のプロセス時代を切り拓きます。